高速熔覆

超高速激光熔覆技術采用光束質(zhì)量較好的半導體光纖輸出激光器或光纖激光器，采用精密設計的高速激光熔覆頭和高轉(zhuǎn)速或移動速度的運動機構。其激光束與粉束、惰性氣體氣流的耦合經(jīng)過精密設計，工作時使一部分激光能量用于加熱粉束，另一部分穿透粉束的激光束加熱基材，粉末在進入熔池之前就已經(jīng)熔化或加熱至很高的溫度，縮短了粉末熔化所需的時間，因此可以實現(xiàn)非常高的熔覆線速度（線速度最高可達200m/min，普通激光熔覆最高2m/min）。

超高速激光熔覆技術特點：

激光能量利用效率高。超高速激光熔覆技術由于精密設計了激光束、粉束與惰性氣體氣流的耦合結構，使得大部分的激光束能量作用于粉末和工件，減少了激光的反射和散射損耗，大幅度提高的激光能量利用效率。同軸送粉激光熔覆技術和旁軸送粉激光熔覆技術的激光束直接照射熔池，熔池表面非常光滑，具有很高的激光反射率，因此這兩種激光熔覆技術的激光能量利用率約35%左右；而超高速激光熔覆技術的激光束穿過粉束照射熔池，大部分激光能量被粉束吸收，因此激光能量利用率高達65%左右。熔覆效率高。超高速激光熔覆技術由于其較高的激光能量利用率，再配合非常高的熔覆線速度和較薄的熔覆層，可實現(xiàn)非常高的熔覆效率（熔覆效率可達0.7m/以上）。熔覆層稀釋率低。超高速激光熔覆技術由于較高的熔覆線速度，熔池的存在時間非常短，因此其熔覆層的稀釋率很低。超高速激光熔覆技術還具有覆層粗糙度好、抗裂性好以及工件變形小等特點。超高速激光熔覆技術制備的熔覆層較薄，非常適合新品零件表面的預保護涂層制備。